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产品型号:

EBE35A

主要特点:

超高真空兼容
精确的线性推进:0.01mm精确度,25mm行程,
专利设计内置挡板,不受空间限制完全打开
可靠的束流监控,有效避免外界电磁场影响
填料方便快速

主要应用:

MBE系统
蒸发难熔金属:Mo、Nb、Ta、W、Zr
半导体:Si和Ge


技术参数:

ebeam2.jpg

安装法兰: NW35CF(CF2.75″)

烘烤温度: 200℃

腔内直径: 34mm

腔内长度: 210mm标准长度,170mm-400mm 可选长度

源数量: 1

样品类型: 棒材,颗粒,粉末(可供坩埚)

冷却方式: 内部水冷,1L/min

加速电压: 0-2500V

束流发散度: ±6°

蒸发温度: >3000℃

坩埚尺寸: 0.1cc,0.15cc

坩埚材料: W、Mo、Ta

棒材尺寸: 直径1-4mm, 长度20-100mm


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